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高纯**细氧化铋应用于制造新型高性能陶瓷和半导体,还可用于颜料、涂料的制备和铋基氧化物**导体的研制和开发。国外已有国家开发出用于半导体和热点装置的高纯氧化铋,该高纯氧化铋的质量要求纯度达到99.999%,粒度分布范围窄(约1μm),主要技术关键是高纯和**细。工艺是湿法提纯、磨碎或高温蒸发、氧化冷凝。
氧化铋在催化剂方面的应用,主要有三类:一类是钼铋催化剂,是用于氧化反应的一种效果好而又经济的催化材料,在工业应用中可作为丙烯氧化为、从丙烯制备丙烯腊、氧化脱氢制备丁二烯、丁二烯氧化为呋喃等过程的催化剂;二类是钇铋催化剂,掺杂了氧化钇的氧化铋材料,是一种非常有吸引力的催化剂。三类是燃速催化剂,氧化铋正在逐步取代氧化铅,成为固体推进剂中重要的催化剂。因为氧化铅有毒,对工作人员和环境有着直接或间接的危害。在其他方面的用途还包括作为核废物吸收材料、显像管荫罩涂层、无毒(已大量应用)、氧化铋薄膜还用于光学涂层、光电子器件、透明陶瓷玻璃的生产等。
氧化铋制备方法:
一、化学沉淀法
化学沉淀法是将金属铋溶解制得铋盐溶液,然后加入沉淀剂和一定量的分散剂或络合剂,经过滤、洗涤、焙烧等来制取Bi2O3 粉体。此法工艺简单,易控制,易操作,易于实现规模化工业生产,而且环境污染小,是目前常用的制备**细Bi2O3粉体的方法之一。
但由于沉淀过程中沉淀产物复杂,成核凝聚过程难于控制,因而产品颗粒的均匀性较差,粒度大小也难以保证。
产品描述
中文名:氧化铋粉
英文名:Bismuth oxide powder
编码:Titd-Bi2O3
化学式:Bi2O3
分子量:465.96
纯度:Bi2O3≥99.99%
CAS号:1304-76-3
熔点:825℃
沸点:1890℃
晶型:单斜相α型/四方相β型
外观:浅、橘
粒度:20-30nm/30-50nm/0.5-2μm/1-3μm/3-6μm/可定制
形貌:不规则/球形/针状
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单位注册资金单位注册资金人民币 500 - 1000 万元。
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